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打破日美垄断 国产ArF光刻胶取得重大突破:可用于7nm工艺

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麦逗VR - 专注于5G内容服务 - 逗小麦 发布于 2020-05-24

(原标题:打破日美垄断 国产ArF光刻胶取得重大突破:可用于7nm工艺) 作为半导体卡脖子的技术之一,很多人只知道光刻机,却不知道光刻胶的重要性,这个市场也是被日本及美国公司垄断,TOP5厂商占了全球85%的份额。 国产光刻胶此前只能用于低端工艺生产线中,能做到G线(436nm)...

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